摘要:国产28nm光刻机最新消息 28nm光刻机可以加工多少nm的芯片,下面是娱乐通小编收集整理的内容,希望对大家有帮助!...
一直以来芯片都是制约我国先进制造业发展的一个重要瓶颈,因为目前我国自己没法生产出高端的芯片,而我国之所以没法自己生产高端芯片,因为我们没有高端的光刻机。
国产28nm光刻机最新消息:
2019年之前我
国自主研发的 光刻机已经实现并量产的 只有90纳米,45纳米以上的 光刻机还处于 实验或者 研究阶段。不过
最 近一段时间我 国传出了 好消息,由上海微电子自主研发的 28纳米工艺沉浸式光刻机目前已经取得了 突破,预计在 2021年到2022年将交付第1台机器。我国光刻机技术直接从90纳米工艺越过45纳米,直接跳到28纳米,这个进步确实是非常明显的。
不过【趣元素】
28nm光刻机跟目前全球最 顶尖的 7nmEUV光刻机仍然 有 很大的 差距,基于 7nmEUV光刻机,目前台积电已经开始量产5纳米的 芯片了 ,所 以即便我 国研发出28纳米的 光刻机,但 短期之内想要解决7纳米以上的芯片难度仍然 是 非常大的 ,未来我 国7纳米以上芯片仍然 严重依赖进口。但我国研发出的28纳米光刻机,我个人认为对电子产品市场会有一定的影响,只是影响不会太大。
我
国作为全球芯片消费最 大的 国家之一,每年有大量的芯片都依赖进口,比如 2019年一年我 们进口的芯片就达到2万亿人民币以上,在 这些芯片当中既包括高端的 芯片,也 包括了 一些中低端芯片。假如
未来我 国28纳米光刻机正式投产了 ,那么我 国芯片产能将会大幅得到提升,而且 能够自主生产的 不仅仅是 28纳米的 芯片,还有 可能包括更高工艺的 芯片。虽然
28纳米光刻机跟目前ASML7纳米光科技仍然 有 很大的 差距,但 是 28纳米的 光刻机通过 工艺上的 改进,并通过 多重曝光之后,是 可以生产出比28纳米更高工艺的 芯片的 ,配合工艺改进,28纳米的 光刻机可以用来生产14纳米、12纳米甚至是 7纳米的 芯片。28nm光刻机可以加工多少nm的芯片:
假如
未来基于 28纳米光刻机能生产出10纳米以上的高端芯片,那么我 国就可以减少对芯片的 进口依赖,这样我 国生产的 一些电子产品成本就有 可能出现下降。毕竟对于
各种电子产品来说,芯片的 成本是 比较高的,如果芯片的 生产成本降低了,那么电子产品的 整机价格也 会跟着 下降,这对于 整个电子产品来说无疑会产生一定影响。不过
目前全球的 电子产品朝着 越来越高端化发展,电子产品所 使用的 芯片工艺越来越高,特别是 对于 手机这些更新换代比较快的 电子产品来说,我 国生产出的 28纳米光刻机其实不会有太大的 影响。因为对于
各大电子厂商来说,他 们想要维持市场的 竞争力,就必须使用最 先进的 芯片工艺,特别是 对于头部手机厂家来说,想要维持市场竞争力,他 们每年都会推出新的 旗舰机,而这些旗舰机所搭载的 都是 当前最 先进的 芯片工艺。而目前全球已经实现5纳米芯片的量产,未来几年3纳米甚至2纳米芯片都有可能量产。
在
这种背景之下,即便我 国生产出28纳米的光刻机了 ,但 是 跟国际顶尖的 芯片水平仍然 有 很大的 差距,所 以我 国芯片还有 很长的 路要走。但
是 我 国能够从90纳米光刻机直接突破到28纳米,这是 一个非常明显的 进步,我 相信按照目前我 国对芯片的 投入以及各大企业对芯片的 重视程度,未来我 国光刻机研究肯定会取得更大的 进步。从这几年手机的
变化可以看出芯片从28nm到现在 的 7nm是 一种科技炒作,从应用上看50~100nm都能满足现在 的 通信设备使用,国际上为什么要炒作7、5、3n m芯片,是 为了 提高自己的科技地 位,随着 电池续航能力的 提高也 就解决了 芯片的 耗电问题,也 不在 呼芯片大一点小一点对产品设计的 影响,所 有 设备还是 以满足消费者 和 实用为主,芯片线路越小,工艺复杂,也 会带来成本的 增加和 出错率的 增加,更不实合电子产品的 开发利用,我们现在 很多人都还有苹果4和 其它老手机在 用,除了 内存容量不足,使用还是 可以接受,也 就是 说芯片线路不是 越细越好,而是 功能设计和 云存与 手机的 互连互通,保证信息存储空间,解决电池续航能力就完全满足通信设备需求,我 看中国的 发展不会因芯片的 个位n m的 影响,也 不必担心美国用科技进步来压制中国,为中国进入新时代点赞。我
28nm光刻机可以做什么? 国28nm光刻机一旦下线量产,对我 们的 芯片制造产业会带来巨大影响,而我 们半导体产业的 发展必将影响整个世界半导体行业的 走向 。很多人可能以为28nm光刻机可能只能做28nm的
芯片,事实上这种理解是 完全错误的。28nm的 光刻机通过 多重曝光是 可以实现更先进制程芯片的 生产制造,除了 28nm芯片外,也 可用来生产14nm、12nm,10nm等 芯片。如 果有 更好的 套件精度,通过 多重曝光甚至可以实现7nm制程芯片生产。当年台积电最
初的 7nm制程芯片也是 使用多重曝光技术来实现的 ,真正的 7nm EUV光刻机其实是 用来生产5nm、3nm这类更先进制程的 芯片。因此,有
了 28nm光刻机,我 们理论上可以实现7nm芯片制程的 生产。这个制程已经可以满足华为麒麟980、990这样高端芯片的 生产需求了 。但是
,我 们仅有 先进的 光刻机其实还不行,在 代工技术上我 们仍需要提高。同样的 光刻机在 台积电手里可以实现7nm制程芯片,而在 中芯这边就只能是 14nm制程,在 代工技术上我 们仍旧有不小的 差距,需要中芯等 代工厂商努力提高。现阶段中芯研发出的
最 先进制程达到了N+2,实际可以达到7nm高性能版要求,未来或许可以配合国产的 光刻机进行生产。光刻机和
代工技术的 发展必定会推动我 们整个半导体产业的 发展,因为从此基本解决了 我 国大部分芯片的生产问题。现在
7nm制程以下的 高端芯片需求量看似很大,但 是 放眼整个芯片产业,那就是 极少一部分,仅仅是 手机上需要,包括AMD电脑芯片,剩下大部分产业可以用10nm、12nm、14nm,28nm,甚至是 65nm芯片都能用。这种情况下,我
们就能做到自给自足,同时还能对外抢占中端市场,未来在 光刻机领域或许就只有 中荷两国竞争了 ,日系厂商基本处于 被淘汰边缘了 。一旦我们的
芯片能完全自主生产,华为这样的 企业就再也 不用担心被断供的 问题,可以放心大胆的 在 前面冲锋陷阵。28nm光刻机如
果能准时量产那我 们和 荷兰ASML的 差距又 缩小了 ,基本可以上超过 了 日系厂商,同时这也 将促进国产芯片在 高端领域的 高速发展,未来将彻底摆脱只能在 低端或者 下游领域混饭吃的 局面,从此逆袭走向 新发展之路。当然 ,我 们还是 得认清和 荷兰ASML的 差距,10年之内应该仍旧追不上人家。