摘要:5nm芯片无需光刻机!中国科技公司已申请制造专利,下面是趣元素小编收集整理的内容,希望对大家有帮助!...
【手机中国新闻】9月15日,手机中国注意到,天眼查App显示,上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造,方案是:按5nm蚀刻线宽设计芯片版图,设计蚀刻掩模版后,用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版;晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面,用等离子体进行干法蚀刻,蚀刻结束后移去蚀刻掩模版,清洁晶圆,进行后续常规的芯片制造步骤。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。【趣元素】
天眼查显示,上海创消新技术发展有限公司成立于
2019年3月,法定代表人为刘明革,注册资本50万人民币,经营范围包括电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的 技术开发等 ,由刘明革和 刘佳慧共同持股。未来几年,我
们期待上海创消新技术发展有 限公司能够在 芯片制造领域取得更多的 突破性成果,并将这项新技术推向 商业化阶段。对于 整个半导体行业来说,这种创新技术的 出现无疑带来了新的 希望和 动力,推动行业不断向 前发展,迈向 更先进的 制造工艺和 更广阔的 应用领域。尽管目前这项技术还处于 实验室阶段,但 是 其潜在 的 影响力不容忽视。